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![[한 방에 끝내는 반도체] 포토(Photo)공정 핵심 완성 과정이미지](/theme/6/img/apply/view_blank.png)
[한 방에 끝내는 반도체] 포토(Photo)공정 핵심 완성
- 교육기간
- 30일
- 강의구성
- 7차시
- 교육시간
- 7시간
반도체 포토공정의 개념, 공정 흐름, 세부 공정, 해상도 개선 기술을 체계적으로 학습하는 강의입니다. 최신 EUV 기술과 포토공정 관련 내용도 다룹니다.
▶교육대상
1. 반도체 포토공정에 대한 실무적 이해가 필요한 학습자
2. 반도체에 관심있는 학습자
▶학습내용
1. 포토 공정 개요
2. 포토 공정 흐름
3. 포토 레지스트
4. 노광 공정
5. 해상도 개선 기술
6. 최신 포토 공정 기술 -EUV Lithography (1)
7. 최신 포토 공정 기술 -EUV Lithography (2)
▶수료기준
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항목 |
진도율 |
진행단계평가 |
최종평가 |
과제 |
수료점수 |
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평가비율 |
100% |
0% |
0% |
0% |
60점이상 |
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수료조건 |
80% |
없음 |
없음 |
없음 |
※ 수료기준은 각 평가항목의 점수가 수료기준 점수 이상이고 총점이 60점 이상이어야 합니다.
학습목표
1. 포토공정의 핵심 개념과 흐름을 이해할 수 있다.2. 최신 EUV 기술을 포함한 해상도 개선 기술의 원리를 습득할 수 있다
강의목차(총 7강)
-
1. 1. 포토 공정 개요 31분
2. 2. 포토 공정 흐름 35분
3. 3. 포토 레지스트 39분
4. 4. 노광 공정 48분
5. 5. 해상도 개선 기술 60분
6. 6. 최신 포토 공정 기술 -EUV Lithography (1) 43분
7. 7. 최신 포토 공정 기술 -EUV Lithography (2) 31분
