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![[한 방에 끝내는 반도체] 산화확산 공정 심화 핵심 완성 과정이미지](/theme/6/img/apply/view_blank.png)
[한 방에 끝내는 반도체] 산화확산 공정 심화 핵심 완성
- 교육기간
- 30일
- 강의구성
- 11차시
- 교육시간
- 11시간
반도체 산화확산 공정의 핵심 개념과 실무 적용 방법을 종합적으로 학습하는 강의입니다. 이론부터 실제 공정 진행 방식, 주요 변수, 최신 기술 트렌드까지 다룹니다.
▶교육대상
1. 방대한 산화확산 공정 내용을 핵심 위주로 정리하고 싶은 학습자
2. 산화확산 공정 과정에 대해 제대로 알고 싶으신 분
▶학습내용
1. Oxidaion - Part 1.도입 및 산화공정 개요
2. Oxidaion - Part 2.산화막 성장 장치
3. Oxidaion - Part 3. 산화막 평가
4. Oxidaion - Part 4. 산화막 성장 이론
5. Oxidaion - Part 5. 공정 조건 의존성
6. Oxidaion - Part 6. 산화막 Quality
7. Diffusion - Part 1. 확산공정 개요
8. Diffusion - Part 2. Dopant 주입 & Part 3. 확산 방정식
9. Diffusion - Part 4. 기타 확산 현상
10. Diffusion - Part 5. 확산 공정 응용
11. Diffusion - Part 6. 확산 공정 평가
▶수료기준
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항목 |
진도율 |
진행단계평가 |
최종평가 |
과제 |
수료점수 |
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평가비율 |
100% |
0% |
0% |
0% |
60점이상 |
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수료조건 |
80% |
없음 |
없음 |
없음 |
※ 수료기준은 각 평가항목의 점수가 수료기준 점수 이상이고 총점이 60점 이상이어야 합니다.
학습목표
1. 산화확산 공정의 원리와 주요 개념을 이해하고, 반도체 제조 과정에서의 역할을 설명할 수 있다.2. 실무에서 활용되는 공정 변수와 품질 관리 기법을 익혀 실전 문제 해결 능력을 갖출 수 있다.
강의목차(총 11강)
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1. 1. Oxidaion - Part 1.도입 및 산화공정 개요 18분
2. 2. Oxidaion - Part 2.산화막 성장 장치 17분
3. 3. Oxidaion - Part 3. 산화막 평가 7분
4. 4. Oxidaion - Part 4. 산화막 성장 이론 13분
5. 5. Oxidaion - Part 5. 공정 조건 의존성 21분
6. 6. Oxidaion - Part 6. 산화막 Quality 29분
7. 7. Diffusion - Part 1. 확산공정 개요 11분
8. 8. Diffusion - Part 2. Dopant 주입 & Part 3. 확산 방정식 17분
9. 9. Diffusion - Part 4. 기타 확산 현상 9분
10. 10. Diffusion - Part 5. 확산 공정 응용 6분
11. 11. Diffusion - Part 6. 확산 공정 평가 13분
