[반도체실무과정] 8대공정 시리즈

▶교육대상

- 반도체 제조 공정 관련 직무 종사자

▶학습내용

1 . CMOS 소개와 Implant 용어 정리

2 . 이온 주입의 개요

3 . 이온 주입에 의한 농도분포

4 . Ion Implant Channeling

5 . 결함의 발생과 Annealing (1)

6 . 결함의 발생과 Annealing (2)

7 . 집적회로에의 응용

8 . Process Evaluation & Technology Trend

9 . Diffusion의 개요

10 . 산화공정 개요

11 . Si/SiO2 계면과 산화막의 용도

12 . 산화 속도의 영향 요소와 SiO2/Si 계면 전하

13 . 불순물의 재분포와 Oxide Quality 요구 조건

14 . 확산의 정의

15 . ANNEAL

16 . 확산 공정의 측정, 평가 및 불량 유형

▶수료기준

※ 수료기준은 각 평가항목의 점수가 수료기준 점수 이상이고 총점이 60점 이상이어야 합니다.